外観検査方法及びその装置および画像処理評価システム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：ポレール特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007162770
Publication number (International publication number)：2009002743
Application date： Jun. 20, 2007
Publication date： Jan. 08, 2009
Summary：

【課題】外観検査において感度を高く設定すると虚報も多く検出してしまうため、高感度で検査することができないという問題があった。そのため、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術が必要であった。【解決手段】検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする【効果】上記画像特徴量と座標特徴量を利用し、決定木に従って虚報判定を行うことにより、実欠陥と虚報の識別を精度よく行うことができるため、虚報を抑制しつつ高感度に検査することができる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

被検査基板上に光または電子線を照射して得られる検出信号を用いて欠陥を検出する外観検査方法であって、前記検出された欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出する工程と、前記検出された欠陥の位置情報をもとに座標特徴量を算出する工程と、前記画像特徴量および座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理で構成される決定木に従って虚報判定を行うことにより実欠陥の情報を出力する工程を有することを特徴とする外観検査方法。

IPC (3)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (4)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , H01L21/66 J , H01L21/66 Z

F-Term (58)：

2F065AA03 , 2F065AA21 , 2F065AA48 , 2F065AA49 , 2F065AA58 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065FF42 , 2F065GG02 , 2F065GG04 , 2F065HH05 , 2F065HH12 , 2F065HH16 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ17 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL10 , 2F065LL24 , 2F065LL32 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ13 , 2F065QQ32 , 2F065QQ39 , 2F065QQ41 , 2F065QQ43 , 2F065SS02 , 2F065SS03 , 2F065SS13 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA10 , 2G051BA20 , 2G051CA02 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EB09 , 2G051EC01 , 2G051EC02 , 2G051ED07 , 2G051ED23 , 2G051FA01 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106CA41 , 4M106DB18 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-206078 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
異物検査方法及び異物検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-234355 Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
外観検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-085381 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

Cited by examiner (5)

パターン検査装置、パターン検査方法およびプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-170109 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-315077 Applicant：富士通株式会社
欠陥分類器の生成方法および欠陥自動分類方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-047290 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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