Pat
J-GLOBAL ID:200903092045797500
電界効果トランジスタ及びその装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006254886
Publication number (International publication number):2007305954
Application date: Sep. 20, 2006
Publication date: Nov. 22, 2007
Summary:
【課題】オフ耐圧を維持して、オン抵抗低減する電界効果トランジスタを得る。【解決手段】窒化物半導体層が複数設けられた積層構造20にキャリア走行層23を有し、該積層構造上に設けられたゲート電極186と、該ゲート電極を挟むソース電極185、ドレイン電極187のFETで、積層構造が、ゲート電極両側にキャリア走行層の端部を露出させる側面140eを備えた段差部を有し、その段差部側面の電極の一部が、段差部上段140tの表面に設けられ、上段に設けられた各電極一部が、キャリア走行方向において、側面からゲート電極側の各電極端部までの距離Lと、が、L≦10μmであり、前記距離L[μm]が1以上10以下の範囲において、距離Lにおける TLM法によるソース、ドレイン電極の接触抵抗Rc[Ω・mm]が、(L, Rc)=(1,2)と(10,5)の線分よりも低い値である電界効果トランジスタ。【選択図】 図2A
Claim (excerpt):
窒化物半導体層が複数設けられた積層構造にキャリア走行層を有し、該積層構造上に設けられたゲート電極と、該ゲート電極を挟むソース電極、ドレイン電極を有する電界効果トランジスタであって、
前記積層構造が、前記ゲート電極両側に前記キャリア走行層の端部を露出させる側面を備えた段差部を有し、
前記段差部側面に、少なくとも前記キャリア走行層端部と接続された、ソース電極、ドレイン電極が設けられ、
該ソース電極、ドレイン電極の一部が、前記段差部上段の表面に設けられ、前記段差部上段に設けられた前記ソース電極、ドレイン電極一部が、キャリア走行方向において、前記側面から前記ゲート電極側の各電極端部までの距離Lと、が、L≦10μmであり、
前記距離L[μm]が1以上10以下の範囲において、距離Lにおける TLM法によるソース、ドレイン電極の接触抵抗Rc[Ω・mm]が、(L, Rc)=(1,2)と(10,5)の線分よりも低い値である電界効果トランジスタ。
IPC (3):
H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
FI (1):
F-Term (26):
5F102FA03
, 5F102GA01
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GJ02
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GL04
, 5F102GM04
, 5F102GM07
, 5F102GT01
, 5F102GT02
, 5F102GT03
, 5F102GV01
, 5F102GV03
, 5F102GV05
, 5F102GV06
, 5F102GV07
, 5F102GV08
, 5F102HC01
, 5F102HC11
, 5F102HC15
, 5F102HC19
, 5F102HC21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-233213
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-259422
Applicant:株式会社デンソー
-
ヘテロ接合電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-022243
Applicant:三菱電機株式会社
-
高電子移動度トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-243808
Applicant:株式会社デンソー
-
GaN系ヘテロ接合電界効果トランジスタ及びその特性を制御する方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-061561
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
特開昭63-308965号公報
-
ヘテロ接合FET及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-072777
Applicant:三菱電機株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-274003
Applicant:株式会社東芝
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Cited by examiner (2)
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-363121
Applicant:松下電器産業株式会社
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-233213
Applicant:ソニー株式会社
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