複合成膜装置およびこれを用いた磁気ヘッドの保護膜形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003179544
Publication number (International publication number)：2005018844
Application date： Jun. 24, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】磁気記録におけるフライトハイトを小さくする保護膜を磁気ヘッド上に形成する複合成膜装置および保護膜形成方法を提供する。【解決手段】複合成膜装置1は、磁気ヘッドが配列して成る基板100の被保護面を所定深さ除去する前処理工程であるイオンビームエッチング専用の処理室10と、前処理が施された面に緩衝膜を形成する緩衝膜形成工程であるマグネトロンスパッタ蒸着専用の処理室30と、緩衝膜が形成された面に保護膜を形成する保護膜形成工程である電子サイクロトロン共鳴プラズマ化学気相成長専用の処理室40と、開閉手段5,6,7を介して処理室10,30,40にそれぞれ連通し、基板100の受け渡しを行う準備室3とを備える【選択図】図1

Claim (excerpt)：

磁気ヘッドの被保護面に所定角度でイオンビームを照射させて該被保護面を所定深さ除去する前処理工程であるイオンビームエッチング専用の処理室と、前記前処理が施された面に緩衝膜を形成する緩衝膜形成工程であるマグネトロンスパッタ蒸着専用の処理室と、前記緩衝膜が形成された面に保護膜を形成する保護膜形成工程である電子サイクロトロン共鳴プラズマ化学気相成長専用の処理室と、開閉手段を介して前記3つの処理室に連通し、被処理物の受け渡しを行う準備室とを備えることを特徴とする複合成膜装置。

IPC (3)：

G11B5/60 , C23C14/56 , C23C16/54

FI (3)：

G11B5/60 C , C23C14/56 G , C23C16/54

F-Term (20)：

4K029AA24 , 4K029BA34 , 4K029BA35 , 4K029BB02 , 4K029BB07 , 4K029BB10 , 4K029BD11 , 4K029CA03 , 4K029CA05 , 4K029DD06 , 4K029FA05 , 4K029KA09 , 4K030AA09 , 4K030BA27 , 4K030BA28 , 4K030FA02 , 4K030HA04 , 4K030LA20 , 5D042RA10 , 5D042SA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

保護膜および複合成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-327310 Applicant：株式会社島津製作所
磁気抵抗ヘッド用成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-346218 Applicant：日本真空技術株式会社
レーザー用膜製造方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-271212 Applicant：キヤノン株式会社, 大阪大学長, 新技術事業団

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