付着膜回収装置および付着膜の回収方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：原謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001097306
Publication number (International publication number)：2002292346
Application date： Mar. 29, 2001
Publication date： Oct. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】金属または金属化合物の付着膜を有する成膜治具から、上記付着膜を経済的にリサイクル可能とし、かつ、成膜治具の研削量が少なく、廃棄物の発生量が抑制された付着膜の回収方法および付着膜回収装置を提供する。【解決手段】作業室22内のテーブル26上に載置された、付着膜を有する成膜治具25に対し、水圧30MPa〜200MPaの範囲のウォータジェットを上記付着膜に対し発生する洗浄ガン51を設ける。作業室22内を陰圧に設定するための排気ファン62を設ける。作業室22をウォータジェットによる飛沫の外部への飛散を抑制するように密封可能に設ける。

Claim (excerpt)：

作業室内の保持台に載置された、付着膜を有する成膜治具に対し、ウォータジェットを用いて上記付着膜を成膜治具から回収する付着膜回収装置において、ウォータジェットのための高圧水を発生するための高圧水発生部が、水圧を30MPa〜200MPaの範囲で発生するように設けられ、作業室がウォータジェットによる飛沫の外部への飛散を抑制するように密封可能に設定されていることを特徴とする付着膜回収装置。

IPC (4)：

B08B 3/02 , B01J 19/00 , C23C 14/00 , C23C 16/44

FI (4)：

B08B 3/02 A , B01J 19/00 K , C23C 14/00 B , C23C 16/44 J

F-Term (48)：

3B201AA46 , 3B201AB01 , 3B201AB34 , 3B201BB22 , 3B201BB32 , 3B201BB43 , 3B201BB55 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CB01 , 3B201CD11 , 3B201CD36 , 4G075AA24 , 4G075AA51 , 4G075AA57 , 4G075BB05 , 4G075BC01 , 4G075BC03 , 4G075BC04 , 4G075BD16 , 4G075CA05 , 4G075CA65 , 4G075CA80 , 4G075DA01 , 4G075DA02 , 4G075EC01 , 4K029BA10 , 4K029BA16 , 4K029BD00 , 4K029BD01 , 4K029CA01 , 4K029CA03 , 4K029CA05 , 4K029DA10 , 4K029GA00 , 4K029HA02 , 4K029KA02 , 4K030BA11 , 4K030BA17 , 4K030BA42 , 4K030CA06 , 4K030DA08 , 4K030KA12 , 4K030KA46 , 4K030LA15 , 4K030LA16 , 4K030LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

閉ループ圧力洗浄システム及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-301383 Applicant：イーズィーエンヴァイロメンタルソリューションズコーポレイション
半導体部材の製造方法および半導体部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-365132 Applicant：キヤノン株式会社
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