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J-GLOBAL ID:200903092649847085

ポジ型感光性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998324108
Publication number (International publication number):1999237736
Application date: Nov. 13, 1998
Publication date: Aug. 31, 1999
Summary:
【要約】【課題】 現像時において高い残膜率が得られ、保護膜および層間絶縁膜として極めて優れた機械的特性を有するポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 式(I)で示されるポリベンゾオキサゾール前駆体と式(II)で示されるナフトキノンジアジド化合物からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
Claim (excerpt):
式(I)で示されるポリベンゾオキサゾール前駆体と式(II)で示されるナフトキノンジアジド化合物からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
IPC (5):
G03F 7/022 601 ,  C08G 73/12 ,  C08G 73/22 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/022 601 ,  C08G 73/12 ,  C08G 73/22 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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