Pat
J-GLOBAL ID:200903092665704014

赤外線輻射検出器、特に赤外線検出ボロメータ、の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998122633
Publication number (International publication number):1999040824
Application date: Mar. 27, 1998
Publication date: Feb. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 赤外線輻射検出器の製造法、特に赤外線検出ボロメータの製造法に関する。【解決手段】 赤外線検出ボロメータの製造方法は、以下のステップを含む:-基板(10又は41)上へサクリファイス層(11,12又は43)を形成する;-上記サクリファイス層(11,12又は43)をパターニングする;-上記サクリファイス層上へ本質的に多結晶シリコンゲルマニウムから構成される層(13又は42)を積層又は成長させる;-上記多結晶シリコンゲルマニウム上へ赤外線吸収体49を積層させる;-サクリファイス層(11,12又は43)を除去する。
Claim (excerpt):
赤外線検出ボロメータの製造方法は、以下のステップを含む:-基板(10又は41)上へサクリファイス層(11,12又は43)を形成する;-上記サクリファイス層(11,12又は43)をパターニングする;-上記サクリファイス層上へ本質的に多結晶シリコンゲルマニウムから構成される層(13又は42)を積層又は成長させる;-上記多結晶シリコンゲルマニウム上へ赤外線吸収体49を積層させる;-サクリファイス層(11,12又は43)を除去する。
IPC (2):
H01L 31/0248 ,  G01J 1/02
FI (2):
H01L 31/08 H ,  G01J 1/02 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
Show all

Return to Previous Page