散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法

Inventor： , , , , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人明成国際特許事務所
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006503834
Publication number (International publication number)：2006518942
Application date： Feb. 23, 2004
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：

【課題】複数レイヤ試料の2つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。【解決手段】試料の第1レイヤから形成される第1構造および第2レイヤから形成される第2構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第1および第2構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第1および第2構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および/または走査角システムのうちの任意の1つ以上を備える。

Claim (excerpt)：

複数レイヤ試料の2つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法であって、前記試料の第1レイヤから形成される第1構造および第2レイヤから形成される第2構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用いることによって前記周期的ターゲットのそれぞれからの光学信号を計測することであって、前記第1および第2構造の間には既定義されたオフセットが存在し、および散乱計測オーバレイ技術を用いて前記既定義されたオフセットに基づいて前記周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって前記第1および第2構造間のオーバレイ誤差を決定することを含む方法であって、前記光学システムは、画像化反射計、画像化分光反射計、偏光分光画像化反射計、走査反射計システム、並列データ獲得が可能な2つ以上の反射計を持つシステム、並列データ獲得が可能な2つ以上の分光反射計を持つシステム、並列データ獲得が可能な2つ以上の偏光分光反射計を持つシステム、ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または反射計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な2つ以上の偏光分光反射計を持つシステム、画像化分光計、波長フィルタを持つ画像化システム、ロングパス波長フィルタを持つ画像化システム、ショートパス波長フィルタを持つ画像化システム、波長フィルタを持たない画像化システム、干渉画像化システム、画像化偏光計、分光偏光計、音響弾性変調器を有するレーザ偏光計、画像化分光偏光計、走査偏光計システム、並列データ獲得が可能な2つ以上の偏光計を持つシステム、前記ウェーハステージを移動させることなく、または任意の光学要素または前記偏光計ステージを移動させることなく、直列データ獲得が可能な2つ以上の偏光計を持つシステム、Michelson干渉計、およびMach-Zehnder干渉計、Sagnac干渉計、走査入射角システム、走査アジマス角システム、+/-1次差分反射計、+/-1次差分偏光反射計の装置のうち任意の1つ以上を備える方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3)：

H01L21/30 525R , G03F9/00 H , H01L21/30 525W

F-Term (5)：

5F046EA01 , 5F046EA07 , 5F046ED05 , 5F046FB06 , 5F046FC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平3-003224
特開平2-112709
マスクの位置合わせ方法およびそれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-271442 Applicant：株式会社ニコン

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