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J-GLOBAL ID：200903096903019584

荷電粒子線の偏向角測定方法及び荷電粒子線装置

Inventor：
鈴木 寛

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矢島 裕介

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高橋 由夫

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黒田 勝広

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中島 真人

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斎藤 英雄

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Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

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Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994295164
Publication number (International publication number)：1996153485
Application date： Nov. 29, 1994
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】荷電粒子線照射領域よりも微細な荷電粒子線の個々の軌道を求め、磁界による偏向角や荷電粒子線の入射位置を求める画像処理方法及び装置を実現する。【構成】磁界23と像面17の位置を変化させて2枚以上の像を取得する。得られた像から特徴点を抽出し、3次元空間に点を配置する。着目した点について、隣接する画像から最近傍の点を探し出して線分で結ぶ。全ての点について線分を形成させ、3次元空間内での直線、すなわち軌道を決定する。この軌道から磁界による偏向角や荷電粒子線の入射位置を求める。【効果】簡単な計算機処理で、荷電粒子線の磁界による偏向角や荷電粒子線の磁界への入射位置を求めることができる。また、広い領域の磁界の情報を含んだ画像から、空間の微細領域の磁界情報を抽出することができる。
Claim (excerpt)：
荷電粒子線を参照試料の有限の大きさを有する面に照射し、上記参照試料の像を結像させて像面を形成し、上記荷電粒子線の経路でかつ上記像面の近傍に被測定対象を配置し、上記被測定対象によって歪んだ2次元試料像を上記被測定対象と像面との間の距離を変えて複数枚を形成し、上記2次元試料像の信号を得る第1ステップと、上記複数枚の2次元試料像のそれぞれの特徴点の位置情報を検出する第2のステップと、上記第2のステップで得られた特徴点の位置情報及び上記複数の平行な2次元の試料像相互間の距離情報を用いて、上記複数の2次元試料像の特徴点の相互間を結ぶ線群の中で直線となるものを抽出する第3ステップと、上記抽出された個々の直線を3次元空間における荷電粒子線の個々の軌道とし上記軌道より上記被測定対象を通過した上記荷電粒子線の上記被測定対象上の位置及び偏向角を求める信号処理ステップとをもつことを特徴とする荷電粒子線の偏向角測定方法。
IPC (4)：
H01J 37/26 ,  G01R 33/028 ,  G21K 1/00 ,  H01J 37/22 501
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (16)
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