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J-GLOBAL ID：200903097597283120

マイクロナノバブル浴槽水作製方法およびマイクロナノバブル浴槽

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
坂田 和之

About 坂田 和之

, 
中條 数美

About 中條 数美

, 
片岡 正紀

About 片岡 正紀


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006264171
Publication number (International publication number)：2008079895
Application date： Sep. 28, 2006
Publication date： Apr. 10, 2008
Summary：
【課題】サイズが多種であると共に多量のマイクロナノバブルを経済的に作製できるマイクロナノバブル浴槽水作製方法およびマイクロナノバブル浴槽を提供する。【解決手段】このマイクロナノバブル浴槽1によれば、マイクロナノバブル発生部34の上部と下部において、第1,第2の2種類のマイクロナノバブル発生機(水中ポンプ型マイクロナノバブル発生機2,旋回流型マイクロナノバブル発生機10)によって、サイズ分布の異なる2種類のマイクロナノバブルを発生するので、幅広いサイズ分布のマイクロナノバブルを含有した浴槽水を多量に作製できる。また、下部で発生したマイクロナノバブル含有水の一部を上部の第1のマイクロナノバブル発生機(旋回流型マイクロナノバブル発生機10)へ流入させることで、旋回流型マイクロナノバブル発生機10ではよりサイズの小さいマイクロナノバブルを発生できる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
マイクロナノバブル発生部の上部で、上記マイクロナノバブル発生部の下部で発生させるマイクロナノバブルのサイズよりも小さいサイズのマイクロナノバブルを発生させて、マイクロナノバブルのサイズ分布の異なる2種類のマイクロナノバブルを発生させ、 上記マイクロナノバブル発生部の下部から上部に浴槽水を流し、 上記マイクロナノバブル発生部から浴槽部に上記マイクロナノバブル含有浴槽水を導入することを特徴とするマイクロナノバブル浴槽水作製方法。
IPC (5)：
A61H 33/02 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/28 ,  A47K 3/00 ,  A61H 23/00
FI (5)：
A61H33/02 D ,  B01F3/04 A ,  C02F1/28 F ,  A47K3/00 F ,  A61H23/00 510
F-Term (42)：
4C074LL01 ,  4C074LL07 ,  4C074MM04 ,  4C074NN01 ,  4C074NN04 ,  4C074NN08 ,  4C074QQ23 ,  4C074QQ36 ,  4C094AA01 ,  4C094BB14 ,  4C094BB15 ,  4C094BB16 ,  4C094BC11 ,  4C094BC18 ,  4C094BC21 ,  4C094DD06 ,  4C094DD14 ,  4C094DD15 ,  4C094EE08 ,  4C094EE11 ,  4C094EE20 ,  4C094EE22 ,  4C094EE24 ,  4C094FF05 ,  4C094GG05 ,  4D024AA06 ,  4D024BA17 ,  4D024BB02 ,  4D024BB05 ,  4D024BC01 ,  4D024DB01 ,  4D624AA06 ,  4D624BA17 ,  4D624BB02 ,  4D624BB05 ,  4D624BC01 ,  4D624DB01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB10 ,  4G035AB15 ,  4G035AB44 ,  4G035AE19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-121082   Applicant：日立エンジニアリング株式会社
Cited by examiner (13)
  • 気泡発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-058862   Applicant：株式会社エムディケー
  • 気泡噴出浴槽用低動力・低騒音気泡発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-066382   Applicant：高木工業株式会社
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
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