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J-GLOBAL ID：200903098742420502

位相測定用システムと方法

Inventor： フアング-イエン,クリストフアー・エム ,  ポペス,ガブリール ,  ヤング,チヤングエイ ,  ワツクス,アダム・ピー ,  ダサリ,ラマチヤンドラ・アール ,  フエルド,マイケル・エス
Applicant, Patent owner： マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジイ
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006517372
Publication number (International publication number)：2007524075
Application date： Jun. 18, 2004
Publication date： Aug. 23, 2007
Summary：

本発明の好ましい実施例は、共通路干渉計検査、位相基準化、能動的安定化及び差動測定を含むが、それらに限定されない、多数の戦略の組み合わせを用いて、位相ノイズの問題に取り組む位相測定用システムに向けられている。実施例は光を用いて小さな生物学的対象を画像形成する光学デバイスに向けられている。これらの実施例は、例えば、細胞生理学及び神経科学の分野に適用出来る。これらの好ましい実施例は位相測定及び画像形成技術の原理に基づく。位相測定及び画像形成技術を使う科学的動機付けは、例えば、限定せぬが、形成異常の起源の画像形成、細胞接合、神経伝達及び遺伝暗号の実施を含むことが出来るが、それらに限定されない、μm以下のレベルでの細胞生物学から導出される。細胞以下の構成部分の構造とダイナミックスは、例えば、X線及び中性子散乱を含む現在の方法と技術を使ってはそれらの自然な状態で現在研究することは出来ない。対照的に、ナノメーターの解像度を有する光ベースの技術は細胞マシナリー(cellular machinery)がその自然な状態で研究されることを可能にしている。かくして、本発明の好ましい実施例は干渉計検査及び/又は位相測定の原理に基づくシステムを含み、細胞生理学を研究するため使われる。これらのシステムは位相を測定するために光学的干渉計を使う低コヒーレンス干渉計検査(LCI)又は細胞部分自身内の干渉が使われる光散乱スペクトロスコピー(LSS)の原理を含むか、又は代わりにLCI及びLSSの原理が組み合わされ本発明のシステムに帰着する。

Claim (excerpt)：

媒体の部分を通過する光の位相を測定する方法に於いて、該方法が 第1波長の光を提供する過程と、 該第1波長の光を第1光路と第2光路とに沿って導く過程と、を具備しており、該第1光路は測定されるべき媒体上へ延びており、該第2光路は路長の変化を受けており、そして該方法は又 該媒体上の2つの別々の点を通過する光の位相の変化を測定するために該媒体からの光と該第2光路からの光とを検出する過程を具備することを特徴とする該方法。

IPC (3)：

G01N 21/17 ,  A61B 5/145 ,  A61B 10/00

FI (3)：

G01N21/17 620 ,  A61B5/14 322 ,  A61B10/00 E

F-Term (27)：

2G059AA02 ,  2G059AA03 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059BB14 ,  2G059BB16 ,  2G059CC16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  4C038KK10 ,  4C038KL05 ,  4C038KL07 ,  4C038KX01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 米国特許出願公開第10/823、389号明細書、2004年4月13日出願
  
• 米国特許出願公開第10/024、455号明細書、2001年12月18日出願
  
• 米国特許仮出願公開第60/479,732号明細書、2003年6月19日出願
  

Cited by examiner (7)

• 被写界深度拡大システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-080454   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 非コヒ-レント光の干渉を用いた物質のリタ-デ-ションの測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-174229   Applicant：イーストマンコダックカンパニー
• 光干渉計の干渉位相検出方式
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-056030   Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
• 光学系及び光学装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-374085   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 干渉計装置、半導体処理装置ならびに基板表面位置の測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-304131   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 光走査プローブ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-233001   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特公昭53-002076