非コヒ-レント光の干渉を用いた物質のリタ-デ-ションの測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999174229
Publication number (International publication number)：2000028521
Application date： Jun. 21, 1999
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】異方性物質の光学リターデーションの測定方法を提供する。【解決手段】異方性物質の光学リターデーションの測定方法。光のビームが物質のサンプル12に向けられ、物質の光学界面12a、12bから反射したビームの一部が収集され、干渉計20に向けられる。その結果生じた干渉信号が分析されリターデーションを測定する。リターデーションは干渉信号の特定のピークの間の距離として測定される。更なる実施形態では、複数の波長光源からの光が物質のサンプルに向けられる。

Claim (excerpt)：

二以上の光学界面を持つ異方性物質の光学リターデーションを測定する方法であって、光のビームを物質のサンプルに向けるステップと、物質の光学界面から反射した光の一部を収集するステップと、収集した光を干渉計に向けるステップと、収集した光に対応する干渉信号を生成するステップと、干渉信号を分析しリターデーションの大きさを測定するステップと、を含むことを特徴とする光学リターデーションの測定方法。

IPC (2)：

G01N 21/23 , G01B 11/02

FI (2)：

G01N 21/23 , G01B 11/02 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭52-004258
特開昭63-153450
特開平3-202752

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