多層型感光材料

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000254535
Publication number (International publication number)：2001133977
Application date： Aug. 24, 2000
Publication date： May. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】 200nm以下の微細なレジストパターンの形成に際し、優れた感度、解像性に加え、エッジラフネスの少ない良好な断面形状のレジストパターンを与える二層の多層型感光材料及びT型形状断面の発生が抑制され、かつ裾ひきがなくエッジラフネスの少ない良好な断面形状のレジストパターンを与える三層の多層型感光材料を提供する。【解決手段】基板上に厚さ30〜300nmの非水溶性反射防止層を設け、その上に厚さ200〜500nmのネガ型レジスト層を設け、必要に応じてさらにネガ型レジスト層の上に水溶性反射防止層を設けた多層型感光材料であって、前記ネガ型レジスト層が、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生するオニウム塩及び(C)ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基から選ばれる少なくとも1個の架橋形成基によりN位が置換されたグリコールウリルを、(A)成分100質量部当り(B)成分0.5〜20質量部、(C)成分3〜50質量部の割合で含有した感光材料とする。

Claim (excerpt)：

基板上に厚さ30〜300nmの非水溶性反射防止層を設け、その上に厚さ200〜500nmのネガ型レジスト層を設けた多層型感光材料であって、前記ネガ型レジスト層が、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生するオニウム塩及び(C)ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基から選ばれる少なくとも1個の架橋形成基によりN位が置換されたグリコールウリルを、(A)成分100質量部当り(B)成分0.5〜20質量部、(C)成分3〜50質量部の割合で含有することを特徴とする感光材料。

IPC (13)：

G03F 7/038 601 , C08K 5/00 , C08K 5/09 , C08K 5/095 , C08K 5/17 , C08K 5/3415 , C08K 5/42 , C08K 5/521 , C08L101/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (13)：

G03F 7/038 601 , C08K 5/00 , C08K 5/09 , C08K 5/095 , C08K 5/17 , C08K 5/3415 , C08K 5/42 , C08K 5/521 , C08L101/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

パターン形成用レジスト積層体及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-238224 Applicant：東京応化工業株式会社
水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-262200 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
ネガ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-074716 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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