化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000352700
Publication number (International publication number)：2002156750
Application date： Nov. 20, 2000
Publication date： May. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】樹脂成分と酸発生剤を含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、プロファイルの形状に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】2-アルキル-2-アダマンチル基、または1-アダマンチル-1-アルキルアルキル基で保護されたアルカリ可溶性基を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂、および下式(I)(式中、Q1、Q2及びQ3は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、Q4は、環状構造を有しても良いパーフルオロアルキルを示す。)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

2-アルキル-2-アダマンチル基、又は1-アダマンチル-1-アルキルアルキル基で保護されたアルカリ可溶性基を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂、及び下式(I)(式中、Q1、Q2及びQ3は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、Q4は、環状構造を有しても良いパーフルオロアルキルを示す。)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 , C08F 20/18 , C08F 32/00 , C08K 5/45 , C08L101/02 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 503 A , C08F 20/18 , C08F 32/00 , C08K 5/45 , C08L101/02 , H01L 21/30 502 R

F-Term (25)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB51 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BK001 , 4J002EV306 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AL08P , 4J100AR11P , 4J100BA20P , 4J100BC09P , 4J100CA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

200nm未満の波長をもつ紫外放射線のための湿式化学現像可能な、エッチ安定なフォトレジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-059053 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-271404 Applicant：富士写真フイルム株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-185283 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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