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J-GLOBAL ID：201002243368844597   Reference number：10A0949994

Evaluation and Application of Resist for Alkaline Wet Etching

アルカリウェットエッチング用レジストの評価と応用

Author (4)： TAKAHASHI TOMOKAZU (東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻) ,  MAKIHATA MITSUTOSHI (東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻) ,  ESASHI MASAYOSHI (東北大学原子分子材料科学高等研究機構) ,  TANAKA SHUJI (東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻)
Material： 電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
Volume： 130  Issue： 9  Page： 421-425 (J-STAGE)  Publication year： 2010 
JST Material Number： L3098A  ISSN： 1341-8939  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *etching ,  *resist ,  circuit pattern generation ,  tactile sensor ,  MEMS ,  photoresist ,  performance evaluation ,  wet etching ,  sensor
Semi thesaurus term： negative type resist ,  photoresist

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (3)：

• US Patent 20080261145 A1. 2008
• DALVI-MALHOTRA, J. A spin-on photosensitive polymeric etch protection mask for aniotropic wet etching of silicon. J. Micromech. Microeng. 2008, 18, 2
• 巻幡光俊. ネットワーク型触覚センサのウェハレベル集積化・パッケージング技術. 応用物理学会集積化MEMSシンポジウム2009, 東京, 2009-10. 2009, 19-23

Terms in the title (5)： アルカリ ,  ウェットエッチング ,  レジスト ,  評価 ,  応用