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J-GLOBAL ID：201003005360622892

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂

Inventor：
竹下 優

About 竹下 優

, 
吉井 靖博

About 吉井 靖博


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008308037
Publication number (International publication number)：2010113319
Application date： Dec. 02, 2008
Publication date： May. 20, 2010
Summary：
【課題】レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素樹脂成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなり、含フッ素樹脂成分(F)は、フッ素原子を含む構成単位(f1)と、親水性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位(f2)と、第3級アルキル基含有基又はアルコキシアルキル基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(f3)とを有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素樹脂成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、 前記含フッ素樹脂成分(F)は、フッ素原子を含む構成単位(f1)と、親水性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位(f2)と、下記一般式(f3-1)で表される構成単位(f3)とを有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/22
FI (6)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/22
F-Term (43)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096GA09 ,  2H096HA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA15P ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC43P ,  4J100CA05 ,  4J100DA37 ,  4J100DA40 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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