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J-GLOBAL ID：200903032274741729

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004215380
Publication number (International publication number)：2005055890
Application date： Jul. 23, 2004
Publication date： Mar. 03, 2005
Summary：
【課題】超LSI、高容量マイクロチップの製造などのマイクロリソグラフィープロセスや、その他のフォトファブリケーションプロセスに好適に用いられる、高感度であり、ラインエッジラフネス、プロファイルが良好なポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線の照射により酸を発生する化合物5〜20質量部及び(B)フッ素原子を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂100質量部を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物5〜20質量部及び (B)フッ素原子を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂100質量部 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
F-Term (17)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • WO-00/17712号パンフレット
  • 独国特許第1005466号明細書
  • 米国特許出願公開第2001/0018162A2号明細書
Cited by examiner (9)
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