高さ制御性に優れた原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松下義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008159547
Publication number (International publication number)：2010002231
Application date： Jun. 18, 2008
Publication date： Jan. 07, 2010
Summary：

【課題】ドリフトがあっても高さ制御性の良い原子間力顕微鏡を用いた加工方法を提供する。【解決手段】時間が短く極端に大きくない範囲での熱ドリフト量は、線形で近似できる。そこで、主に熱ドリフトの寄与を補正する。時間差をおいた2回の高さ測定から高さ方向のドリフト速度を算出し、加工開始時にドリフトによる高さずれを予測したガラス基板の高さに設定して高さを固定したままAFM探針で機械的な加工で黒欠陥を除去する。もしくは時間差をおいて高さ測定を行って高さ方向のドリフト速度を算出し、ドリフト速度が5nm/min以下に収束した後、ガラス基板の高さに設定・固定したままAFM探針で機械的な加工を行い黒欠陥を除去する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

探針によって任意の基準となる位置における1回目の高さ測定を行う工程と、前記1回目の測定の後、任意の時間経過後に前記1回目と同じ位置における2回目の高さ測定を行う工程と、前記1回目及び2回目の測定した基準位置の高さの測定値の差と前記時間差とから高さ方向のドリフト速度を算出する工程と、加工時に前記ドリフト速度に応じて予測したドリフト量を高さ方向の補正値として目標高さ位置の補正を行う工程と、前記探針を前記補正後の高さに固定する工程と、を備えたこと、を特徴とする原子間力顕微鏡を用いた加工方法。

IPC (3)：

G01Q 80/00 , G01Q 60/24 , G03F 1/08

FI (3)：

G01N13/10 K , G01N13/16 101 , G03F1/08 V

F-Term (3)：

2H095BD04 , 2H095BD32 , 2H095BD40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-319361 Applicant：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
走査プローブ顕微鏡の探針を用いた加工方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-154059 Applicant：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
特開平3-152845

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