感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：渡邉一平 , 木川幸治 , 菅野重慶
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009002730
Publication number (International publication number)：2010160346
Application date： Jan. 08, 2009
Publication date： Jul. 22, 2010
Summary：

【課題】焦点深度が広く、LWR及びMEEFが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)および(2)で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位(3)をそれぞれ1種類以上含むことを特徴とする重合体(A)、ならびに感放射線性酸発生剤(B)を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)および(2)で表される繰り返し単位と、環状カーボネート構造を有する繰り返し単位(3)をそれぞれ1種類以上含む重合体(A)、ならびに感放射線性酸発生剤(B)を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 , C08F 220/12 , C08F 220/26 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 , C08F220/12 , C08F220/26 , H01L21/30 502R

F-Term (41)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AL03P , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL05Q , 4J100AL08P , 4J100AL08R , 4J100AL26R , 4J100BA02R , 4J100BA03R , 4J100BA11R , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100BC43R , 4J100BC60R , 4J100BC65R , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-288524 Applicant：富士通株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-024778 Applicant：JSR株式会社
液浸露光用感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-124236 Applicant：JSR株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

New Protective Groups in Alicyclic Methacrylate Polymers for 198-nm Resists

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