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J-GLOBAL ID：201003026793563928

フォトレジスト用高分子化合物の製造方法

Inventor：
寺西 直史

About 寺西 直史


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009121444
Publication number (International publication number)：2010270185
Application date： May. 19, 2009
Publication date： Dec. 02, 2010
Summary：
【課題】 金属成分、特にナトリウム及び鉄含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(a)、ラクトン骨格を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含む。カチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液するポリマー溶液中の金属含有量は、ポリマーに対して1000重量ppb以下であるのが好ましい。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(a)、ラクトン骨格を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法。
IPC (4)：
C08F 220/26 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 6/00
FI (4)：
C08F220/26 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F6/00
F-Term (33)：
2H125AF17P ,  2H125AF46P ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA20P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA61 ,  4J100EA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100FA34 ,  4J100GC35 ,  4J100GC37 ,  4J100JA38 ,  4J100JA46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (10)
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