ポジ型リソグラフィー用共重合体、該共重合体の製造のための重合開始剤及び半導体リソグラフィー用組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小林雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006138768
Publication number (International publication number)：2007308586
Application date： May. 18, 2006
Publication date： Nov. 29, 2007
Summary：

【課題】化学増幅ポジ型リソグラフィーにおいて使用され、溶解コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた共重合体を提供する。【解決手段】ポジ型リソグラフィー用共重合体は、式(A)で表される繰り返し単位(A)と、式(B)で表される、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した末端構造(B)を有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

少なくとも、式(A)

IPC (5)：

C08F 220/28 , G03F 7/033 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 4/04

FI (5)：

C08F220/28 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F4/04

F-Term (50)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB40 , 4J015AA01 , 4J015AA03 , 4J100AB07R , 4J100AJ02R , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09R , 4J100BA03R , 4J100BA04P , 4J100BA06P , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16R , 4J100BB18R , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC04R , 4J100BC08P , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC83Q , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

特開昭59-045439号公報
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-051811 Applicant：東京応化工業株式会社
放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-282664 Applicant：ダイセル化学工業株式会社

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Cited by examiner (2)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-426162 Applicant：JSR株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-341513 Applicant：信越化学工業株式会社

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