マスク用基板検査装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：西村竜平 , 佐藤明子 , 齊藤真大
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008194211
Publication number (International publication number)：2010032738
Application date： Jul. 28, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：

【課題】半導体ウエハに回路パターンを露光する際に用いられるレチクル等のマスク用基板を表裏反転できるようにして、単一の検査光学系機構で測定できるようにしつつも、マスク用基板を表裏反転させるときの回転機構及びその回転駆動系構造を簡単な構成で実現できるマスク用基板検査装置100を提供する。【解決手段】検査光学系機構101に対して相対移動可能なステージ3に姿勢調整可能に支持基体4を取り付け、この支持基体4にレチクルWを保持する基板保持体5を反転可能に支持させる。そして、基板保持体5を、前記マスク用基板を挟圧把持する把持状態及び基板を抜き差しすることができる非把持状態のいずれかの状態をとることが可能なものとするとともに、前記基板保持体5を前記2状態のいずれかに駆動するための把持駆動機構11を前記支持基体4側に設けるようにした。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

露光工程で用いられるマスク用基板に検査光を照射し、その反射光又は透過光に基づいて、当該マスク用基板上に存在する異物又は欠陥を検査するものであって、前記検査光を射出する光源及び前記反射光又は透過光を受光する光センサからなる検査光学系機構と、支持基体と、前記マスク用基板を挟圧把持した状態である把持状態及び基板を固定することなく搭載した状態である非把持状態のいずれかの状態をとることが可能であるとともに、前記支持基体に回転可能に接続された基板保持体と、前記基板保持体を、表面に検査光が照射される表面検査角度位置及びこの表面検査角度位置から反転させて裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置に保持する検査角度位置保持機構と、前記支持基体側に搭載されて前記基板保持体を前記2状態のいずれかに駆動するための把持駆動機構とを具備したものであることを特徴とするマスク用基板検査装置。

IPC (1)：

G03F 1/08

FI (1)：

G03F1/08 S

F-Term (2)：

2H095BD04 , 2H095BD05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

異物検査装置およびこれを備えた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-341473 Applicant：株式会社ニコン
表面異物検査方法および表面異物検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-070774 Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (6)

異物検査装置及び異物検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-020218 Applicant：セイコーエプソン株式会社
マスク外観検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-273261 Applicant：宮崎沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社
基板支持装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-273487 Applicant：アネルバ株式会社

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