インプリントリソグラフィ

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：稲葉良幸 , 大貫敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009204211
Publication number (International publication number)：2010067969
Application date： Sep. 04, 2009
Publication date： Mar. 25, 2010
Summary：

【課題】インプリントテンプレートに対する基板の位置を決定する方法を記載する。【解決手段】インプリントテンプレートは少なくとも3つの格子を有し、基板は、各インプリントテンプレート格子が関連する基板格子と共に複合格子を形成するように配置された少なくとも3つの格子を有し、これら少なくとも3つのインプリントテンプレート格子と、関連する基板格子とは互いにずれている。本方法は、3つの複合格子で反射される放射の強度を検出すること、及び検出された強度を用いて、ある位置からの基板又はインプリントテンプレートの変位を決定することを含む。【選択図】図2a

Claim (excerpt)：

インプリントテンプレートが少なくとも3つの格子を有し、基板が各インプリントテンプレート格子が関連する基板格子と共に複合格子を形成するように配置された少なくとも3つの格子を有し、前記少なくとも3つのインプリントテンプレート格子と関連する基板格子とが互いにずれている、インプリントテンプレートに対する基板の位置を決定する方法であって、前記3つの複合格子で反射される放射の強度を検出するステップと、前記検出された強度を用いて、ある位置からの前記基板又はインプリントテンプレートの変位を決定するステップとを含む、方法。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (8)：

5F046AA28 , 5F046EA07 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA10 , 5F046FB08 , 5F046FB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

微細加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-370693 Applicant：株式会社リコー
転写装置およびデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-356284 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-190725

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