インプリントリソグラフィ

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006344038
Publication number (International publication number)：2007227890
Application date： Dec. 21, 2006
Publication date： Sep. 06, 2007
Summary：

【課題】インプリントリソグラフィ装置において、テンプレートホルダがかなりのスペースを占領しているので、各インプリントエリアを同時にインプリントするためのインプリントテンプレートを設けるスペースが十分にない。【解決手段】第1テンプレートホルダアレイと、第2テンプレートホルダアレイと、インプリント対象基板を支持するように配された基板テーブルとを有し、第1テンプレートホルダアレイは、基板上に第1パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2テンプレートホルダアレイは、基板上に第2パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2アレイによってインプリントされたパターンは、第1アレイによってインプリントされたパターンの間に散在する、インプリントリソグラフィ装置。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

第1テンプレートホルダアレイと、第2テンプレートホルダアレイと、インプリント対象基板を支持するように配された基板テーブルとを有し、第1テンプレートホルダアレイは、基板上に第1パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2テンプレートホルダアレイは、基板上に第2パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2アレイによってインプリントされたパターンは、第1アレイによってインプリントされたパターンの間に散在する、インプリントリソグラフィ装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (2)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B

F-Term (16)：

4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

磁気記録媒体の製造方法、製造装置、インプリントスタンパ及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-346898 Applicant：株式会社東芝
自動位置合わせされた整流素子を用いるナノメートルスケールのメモリデバイスおよびその作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-012672 Applicant：ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
単結晶サファイア基板とその製造方法及び半導体発光素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-369679 Applicant：京セラ株式会社

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