Pat
J-GLOBAL ID:201003070033661643
光画像計測装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
特許業務法人三澤特許事務所
, 三澤 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008160548
Publication number (International publication number):2010000191
Application date: Jun. 19, 2008
Publication date: Jan. 07, 2010
Summary:
【課題】被測定物体の異なる部位を描写する複数のOCT画像を基に被測定物体の物理量を高い確度で計測可能な技術を提供する。【解決手段】光画像計測装置1は、低コヒーレンス光L0を信号光LSと参照光LRとに分割し、参照光LRの光路を光路長の異なる二つの光路に分割することで参照光LRを二つの参照光LRa、LRbに分割する。更に、光画像計測装置1は、これら二つの光路をそれぞれ経由した参照光LRa、LRbと被検眼Eを経由した信号光LSとを干渉させて、被検眼Eの二つの深度位置(眼底Ef、角膜Ec)のそれぞれにおける形態を反映した干渉光LCを生成し、この干渉光LCを検出して検出信号を生成する。そして、光画像計測装置1は、この検出信号に基づいて眼底断層画像と角膜断層画像を形成し、これら断層画像を解析して被検眼Eの角膜網膜間距離を求める。【選択図】図5
Claim (excerpt):
低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割し、前記参照光の光路を光路長の異なる複数の光路に分割することで前記参照光を複数の参照光に分割し、前記複数の光路をそれぞれ経由した前記複数の参照光と被測定物体を経由した前記信号光とを干渉させて、前記被測定物体の複数の深度位置のそれぞれにおける形態を反映した干渉光を生成する光学系と、
前記生成された干渉光を検出して検出信号を生成する検出手段と、
前記生成された検出信号に基づいて、前記複数の深度位置における前記被測定物体の形態を表す複数の断層画像をそれぞれ形成する画像形成手段と、
前記複数の断層画像を解析して前記被測定物体の所定の物理量を求める解析手段と、
を備えることを特徴とする光画像計測装置。
IPC (6):
A61B 3/10
, G01N 21/17
, A61B 3/12
, A61B 3/14
, G01B 11/24
, G01B 9/02
FI (7):
A61B3/10 Z
, G01N21/17 630
, A61B3/10 H
, A61B3/12 E
, A61B3/14 F
, G01B11/24 D
, G01B9/02
F-Term (45):
2F064AA01
, 2F064AA09
, 2F064EE01
, 2F064EE04
, 2F064FF00
, 2F064GG03
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG44
, 2F064GG49
, 2F064GG52
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F065AA46
, 2F065AA52
, 2F065AA53
, 2F065CC16
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG07
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL24
, 2F065LL42
, 2F065LL67
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2F065SS13
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE11
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059HH02
, 2G059JJ07
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059KK04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
スペクトル干渉に基づく光学・トモグラフィ-および光学表面プロファイル測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-082817
Applicant:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
-
光断層画像取得装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-334096
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
光断層画像表示システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-207140
Applicant:サンテック株式会社
-
光画像計測装置及び光画像計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-109247
Applicant:株式会社トプコン
-
眼底観察装置、眼底画像表示装置及び眼底観察プログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-252953
Applicant:株式会社トプコン
-
眼底カメラ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-091513
Applicant:株式会社ニコン
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Cited by examiner (1)
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