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J-GLOBAL ID：201003094826955067

酸化膜表面の洗浄及び保護方法および酸化膜表面の洗浄及び保護装置

Inventor：
江面 知彦

About 江面 知彦

, 
渡辺 伸吾

About 渡辺 伸吾


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (3)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008198367
Publication number (International publication number)：2010040567
Application date： Jul. 31, 2008
Publication date： Feb. 18, 2010
Summary：
【課題】基板上のITO表面を洗浄及び保護する方法を提供する。【解決手段】プロセスチャンバPC100の内部に載置された基板上のITO表面にその表面の汚染物の分子の結合エネルギーより強いエネルギーを持つ光を光源から照射し、その照射中又は照射後、直ちに同一チャンバ内にてシランカップリングのガスを供給する。これにより、基板上のITO表面を洗浄及び保護することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
反応容器内に載置された基板上の酸化膜の表面に、前記表面の汚染物の分子の結合エネルギーより強いエネルギーを持つ光を光源から照射する第1の工程と、 前記第1の工程中または前記第1の工程後直ちに前記反応容器内にシランカップリングのガスを供給する第2の工程と、を含む酸化膜表面の洗浄及び保護方法。
IPC (4)：
H01L 21/304 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/26
FI (4)：
H01L21/304 645D ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/26 Z
F-Term (33)：
3K107AA01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC23 ,  3K107CC25 ,  3K107CC27 ,  3K107CC29 ,  3K107FF00 ,  3K107GG23 ,  3K107GG28 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB02 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD07 ,  5F004EA38 ,  5F004EB02 ,  5F058AA10 ,  5F058AB05 ,  5F058AB06 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AE10 ,  5F058AF01 ,  5F058AH02 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BG45 ,  5F157CF80 ,  5F157CF90
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
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