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J-GLOBAL ID：201003099259848752

感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法

Inventor：
松村 信司

About 松村 信司

, 
浅野 裕介

About 浅野 裕介

, 
成岡 岳彦

About 成岡 岳彦


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (3)： 小島 清路 ,  萩野 義昇 ,  谷口 直也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008305422
Publication number (International publication number)：2010128376
Application date： Nov. 28, 2008
Publication date： Jun. 10, 2010
Summary：
【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】本樹脂組成物は、式(1)で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂(A)と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂(B)と、酸発生剤(C)とを含む。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表される繰り返し単位(A1)、及びフッ素原子を有する繰り返し単位(A2)を含有する樹脂(A)と、 酸解離性基を有する繰り返し単位(B1)を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂(B)と、 感放射線性酸発生剤(C)と、を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
F-Term (54)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02S ,  4J100AB03S ,  4J100AB07S ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL26Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA05S ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA22P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC02R ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC26Q ,  4J100BC49S ,  4J100BC53S ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA02 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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