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J-GLOBAL ID:201101074301619030   Update date: Sep. 01, 2020

Hirano Hideki

ヒラノ ヒデキ | Hirano Hideki
Affiliation and department:
Job title: Associate Professor
Homepage URL  (2): http://db.tohoku.ac.jp/whois/detail/0f4fb6db0db86ebf7af8a4776dea15ef.htmlhttp://db.tohoku.ac.jp/whois/e_detail/0f4fb6db0db86ebf7af8a4776dea15ef.html
Research field  (3): Electronic devices and equipment ,  Electronic devices and equipment ,  Functional solid-state chemistry
Research keywords  (5): 酸化物デバイス ,  Oxide devices ,  adhesion ,  Micromachining ,  MEMS
Research theme for competitive and other funds  (1):
  • 2010 - Development of advanced RF devices
Papers (56):
MISC (6):
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Patents (3):
  • チューナブルフィルタ及びその製造方法
  • 固体撮像装置とその製造方法、電子機器並びに半導体装置
  • プリンタヘツド及びプリンタ
Lectures and oral presentations  (32):
  • Integration of BST Varactors on Lithium Niobate by Film Transfer Technology for Tunable SAW Filters
    (International Symposium on Acoustic Wave Devices for Future Mobile Communication Systems 2012)
  • MEMS構造に損傷を与えないパーティクル除去方法
    (第29回センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム 2012)
  • ルテニウム犠牲層を用いた強誘電体薄膜の転写方法
    (第73回 応用物理学会学術講演会 2012)
  • 転写法による強誘電体バラクタとSAW共振子との集積化と可変型フィルタへの応用
    (第5 回 マイクロシステム融合研究会 2012)
  • 転写法による強誘電体バラクタとSAW共振子の集積化と可変型フィルタへの応用
    (圧電材料・デバイスシンポジウム 2012 2012)
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Education (3):
  • - 2013 Tohoku University ナノメカニクス専攻
  • - 1990 The University of Tokyo 化学専攻
  • - 1988 Science University of Tokyo 化学科
Professional career (2):
  • 博士(工学) (Tohoku University)
  • 理学修士 (The University of Tokyo)
Work history (5):
  • 2013/04 - 現在 東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター 助教
  • 2010/04 - 2013/03 東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター 研究員
  • 2009/10 - 2010/03 東京工業大学 学生
  • 2004/04 - 2009/05 ソニー株式会社 半導体開発部門 主任研究員 課長
  • 1990/04 - 2004/03 ソニー株式会社 中央研究所 研究員
Awards (5):
  • 2016/10/26 - 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第33回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム 優秀技術論文賞 表面実装型集積化MEMSのためのレーザ消去CMOS-LSIマルチプロジェクトウハへの深いTSVの作製
  • 2016/10/26 - 電気学会センサ・マイクロマシン部門 第33回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム 集積化MEMSシンポジウム論文賞 厚いAu膜の面内高周波フィードスルーを用いたAu-Au接合気密封止MEMSパッケージング技術
  • 2016/03/31 - 田中貴金属記念財団 貴金属に関わる研究助成金 シルバー賞 切削平坦化した銀バンプを用いたウェハレベル高真空気密封止技術の開発
  • 2006/09/20 - IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2006 (ISSM 2006) Best Paper Award
  • 2000/12/15 - ソニー株式会社 Sony Research Forum 2000 ベストプレゼンテーション賞
Association Membership(s) (3):
電気学会 ,  応用物理学会 ,  日本化学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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