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J-GLOBAL ID：201103002834247140

ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 長谷川 幸士 ,  渡邉 聡 ,  畠山 潤 ,  金生 剛 ,  橘 誠一郎
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006001102
Publication number (International publication number)：2007182488
Patent number：4539865
Application date： Jan. 06, 2006
Publication date： Jul. 19, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】 下記一般式(1)で示されるラクトン含有化合物。 (式中、A1は炭素-炭素二重結合を有する重合性官能基を示す。R1は構成炭素上の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示す。WはCH2、酸素原子、硫黄原子のいずれかを示す。)

IPC (6)：

C08F 20/10 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  C07D 307/93 ( 200 6.01) ,  C07D 493/18 ( 200 6.01) ,  C08F 32/04 ( 200 6.01)

FI (6)：

C08F 20/10 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R ,  C07D 307/93 CSP ,  C07D 493/18 ,  C08F 32/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-107092   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-333504   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• (メタ)アクリル酸5-オキソ-4,8-ジオキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-2-イルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-222562   Applicant：株式会社クラレ