X線発生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 石田悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010167353
Publication number (International publication number)：2011071101
Application date： Jul. 26, 2010
Publication date： Apr. 07, 2011
Summary：

【課題】電子ビームの照射野とターゲット体との位置関係が変化するのを抑制して、所望のX線量を安定して得ることが可能なX線発生装置を提供すること。【解決手段】X線発生装置1は、電子ビームを出射する電子銃部3と、ターゲット部Tと、電子銃部3から出射された電子ビームの進路を変更可能なコイル部9と、反射電子を検出する反射電子検出器31と、反射電子検出器31の検出信号に基づいてコイル部9を制御するコントローラ33と、を備えている。ターゲット部Tは、基板21と、基板21に埋設されたターゲット体23と、を有している。電子ビームのターゲット部Tでの照射野の径は、ターゲット体23の径よりも大きい。コントローラ33は、コイル部9を制御して、電子ビームのターゲット部Tでの照射野内にターゲット体23が常に含まれるように、照射野をターゲット部T上において二次元的に走査する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

電子ビームを出射する電子銃部と、基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、前記制御部は、前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記照射野を前記ターゲット部上において二次元的に走査することを特徴とするX線発生装置。

IPC (4)：

H01J 35/14 , H01J 35/08 , H05G 1/00 , H05G 1/52

FI (4)：

H01J35/14 , H01J35/08 F , H05G1/00 E , H05G1/52 B

F-Term (6)：

4C092AA01 , 4C092AB19 , 4C092AB21 , 4C092BB13 , 4C092BD16 , 4C092CF42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

X線源及びその陽極
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-147850 Applicant：株式会社東芝, 東芝電子管デバイス株式会社
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-092076 Applicant：株式会社島津製作所
X線ターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-028647 Applicant：山田廣成

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