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J-GLOBAL ID：201103028504733080

金属微粒子の製造方法

Inventor： 西岡 将輝 ,  葛西 真琴 ,  鈴木 敏重 ,  宮川 正人 ,  片岡 春樹 ,  甲田 秀和
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社新光化学工業所
Agent (2)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010271979
Publication number (International publication number)：2011137226
Application date： Dec. 06, 2010
Publication date： Jul. 14, 2011
Summary：

【課題】粒子径分布の狭い金属ナノ粒子を、短時間で、高い収率で、かつ高エネルギー効率で、連続的に合成することを可能とする金属ナノ粒子材料の製造方法を提供する。【解決手段】金属前駆物質を含有する反応液を流通管内に流通させるとともに、その流通管の長さ方向にわたって、均一かつ集中的に電磁波を流通管内に向けて照射し、流通管内の電磁波照射空間を流通方向にわたって均一に加熱し、金属微粒子を生成させる金属ナノ粒子の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

金属前駆物質を含有する反応液を流通管内に流通させるとともに、その流通管の長さ方向にわたって、均一かつ集中的に電磁波を流通管内に向けて照射し、流通管内の電磁波照射空間を流通方向にわたって均一に加熱し、金属微粒子を生成させる金属微粒子の製造方法。

IPC (2)：

B22F 9/24 ,  B22F 9/30

FI (2)：

B22F9/24 E ,  B22F9/30 Z

F-Term (14)：

4K017AA02 ,  4K017BA01 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA04 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017BA07 ,  4K017BA08 ,  4K017CA08 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB07 ,  4K017FB11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• ポリオールプロセスを用いた、ナノ結晶性粉末およびコーティングのマイクロ波補助連続合成
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-503162   Applicant：ブルース,ラルフ,ダブリュー.
• 超微粉のマイクロ波プラズマ化学合成
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-521901   Applicant：マテリアルズモディフィケーション,インコーポレイティド
• 超微粒子の製造方法及び超微粒子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-058435   Applicant：大阪大学長
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-368409   Applicant：キヤノン株式会社
• マイクロ波を用いた銅ナノ粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-242572   Applicant：三星電機株式会社
• MLCC用導電性ペースト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-229759   Applicant：岩谷産業株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-210874   Applicant：芝浦メカトロニクス株式会社
• 重合体材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-410722   Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• マイクロ波加熱装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-141079   Applicant：株式会社IDX, 独立行政法人産業技術総合研究所
• 特許第5300014号
  
• マイクロ波プラズマ発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-088366   Applicant：株式会社エー・イー・ティー・ジャパン
• 特表平1-502267