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J-GLOBAL ID:201103053142090376

炭素基板または金属基板上でのカーボンナノチューブの成長

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010547228
Publication number (International publication number):2011512315
Application date: Feb. 17, 2009
Publication date: Apr. 21, 2011
Summary:
本発明は、基板上でのナノチューブの成長、特に、当該ナノチューブの成長が通常は困難である炭素基板または金属基板上でのカーボンナノチューブの成長に関する。したがって、本発明は、単一ステップ、ならびに単一および同一成長装置において、セラミックの副層を堆積する第一の段階と、上記副層上にカーボンナノチューブを堆積することを含む第二の段階とを有する。好適には化学成長気相法を用いて成長を実行させる。
Claim (excerpt):
基板上においてカーボンナノチューブを成長させる方法であって、 単一かつ同一の成長反応器における単一工程にて、 セラミックの副層を堆積させる第一の段階と、 該セラミックの副層上にカーボンナノチューブを堆積させる第二の段階と が行われることを特徴とする方法。
IPC (1):
C01B 31/02
FI (1):
C01B31/02 101F
F-Term (21):
4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD20 ,  4G146AD22 ,  4G146AD30 ,  4G146BA12 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC28 ,  4G146BC32A ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146BC34A ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146BC48 ,  4G146DA03 ,  4G146DA22 ,  4G146DA26 ,  4G146DA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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