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J-GLOBAL ID:201103059086847394
収差補正方法、この収差補正方法を用いた顕微鏡観察方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010043099
Publication number (International publication number):2011180290
Application date: Feb. 26, 2010
Publication date: Sep. 15, 2011
Summary:
【課題】媒質に対するレーザ照射位置が深くても、レーザ光の集光度合を高めることが可能な収差補正方法を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る収差補正方法では、光透過性を有する媒質61内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置1の収差補正方法において、レーザ照射装置1は、雰囲気媒質60の屈折率が媒質61の屈折率より大きい集光手段50を備え、媒質61の屈折率をn、媒質61の屈折率nが雰囲気媒質60の屈折率に等しいと仮定した場合における媒質61の入射面から集光手段50の焦点までの深さをd、媒質61によって発生する縦収差の最大値をΔsと定義すると、レーザ光の集光点が、媒質61の入射面からn×d-Δsより大きく、n×dより小さい範囲に位置するように、すなわち、収差を補正しないときに媒質61内部で縦収差が存在する範囲の間に位置するように、レーザ光の収差を補正する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
光透過性を有する媒質内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置の収差補正方法において、
前記レーザ照射装置は、前記媒質内部にレーザ光を集光するための集光手段であって、当該集光手段の雰囲気媒質の屈折率が前記媒質の屈折率より大きい当該集光手段を備えており、
前記媒質の屈折率をn、前記媒質の屈折率nが前記集光手段の雰囲気媒質の屈折率に等しいと仮定した場合における前記媒質の入射面から前記集光手段の焦点までの深さをd、前記媒質によって発生する縦収差の最大値をΔsと定義すると、
前記レーザ光の集光点が、前記媒質の入射面からn×d-Δsより大きく、n×dより小さい範囲に位置するように、前記レーザ光の収差を補正することによって、収差を補正しないときに前記媒質内部で縦収差が存在する範囲の間に位置するように、前記レーザ光の収差を補正することを特徴とする、
収差補正方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (4):
2H052AB02
, 2H052AB06
, 2H052AB29
, 2H052AC34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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波面変換素子及びそれを用いたレーザ走査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-135572
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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対物レンズユニット、対物レンズアクチュエータモジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-012133
Applicant:日立マクセル株式会社
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位相光学素子及び光ピックアップ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-144534
Applicant:日本ビクター株式会社
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顕微鏡システム、顕微鏡の制御方法、及びプログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-272286
Applicant:オリンパス株式会社
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光学顕微鏡測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-388725
Applicant:株式会社島津製作所
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レーザ加工方法、レーザ加工装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-203529
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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