Pat
J-GLOBAL ID：201103078237479508

インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法

Inventor：
橋本 努

About 橋本 努


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高岡 亮一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009241679
Publication number (International publication number)：2011091104
Application date： Oct. 20, 2009
Publication date： May. 06, 2011
Summary：
【課題】モールドのパターン面に形成された凹凸部に残留した紫外線硬化樹脂を短時間で検査可能なインプリント装置を提供する。【解決手段】モールド5に形成されたパターン10を基板8に塗布された樹脂11に押印し、基板8にパターン10の層を形成するインプリント装置1であって、樹脂11は、紫外線を受光することにより硬化する紫外線硬化樹脂に、紫外線を受光すると蛍光、若しくは燐光する発光物質15を混合したものであり、発光物質から発する光を検知する発光検知手段16を備え、該発光検知手段16は、基板8上の発光物質15が混合された紫外線硬化樹脂からモールド5を離型した後、モールド5におけるパターン10の凹凸部に残留した残留樹脂22から発する光を検知する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
モールドに形成されたパターンを基板に塗布された樹脂に押印し、前記基板に前記パターンの層を形成するインプリント装置であって、 前記樹脂は、紫外線を受光することにより硬化する紫外線硬化樹脂に、紫外線を受光すると蛍光、若しくは燐光する発光物質を混合したものであり、 前記発光物質から発する光を検知する発光検知手段を備え、 前記発光検知手段は、前記基板上の前記発光物質が混合された前記紫外線硬化樹脂から前記モールドを離型した後、前記モールドにおける前記パターンの凹凸部に残留した残留樹脂から発する光を検知することを特徴とするインプリント装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
F-Term (14)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM