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J-GLOBAL ID：201103083242147509

粒子線加速器用永久磁石および磁界発生装置

Inventor： 槇田 顕 ,  杉山 英二 ,  青木 雅昭 ,  村上 嘉一 ,  川久保 忠通 ,  中村 英滋
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社 ,  大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構
Agent (1)： 奥田 誠司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005502864
Patent number：4697961
Application date： Feb. 20, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 吸収線量3,000Gy以上の放射線に被曝される環境で使用される磁界発生装置であって、 磁界発生空間を形成するように略環状に配置された複数の永久磁石を備えており、 前記永久磁石は、 R(希土類元素のうちの少なくとも1種)、B(硼素)、およびTM(遷移元素のうち少なくとも1種で、Feを含有するもの)、および不可避的に含まれる不純物元素を含有し、 パーミアンス係数が0.5以上での着磁状態にあり、かつ保磁力HcJが1.6MA/m以上であり、 前記焼結磁石の組成比は、 R:25.0〜40.0質量%、 B:0.8〜1.2質量%、 不可避的に含まれる不純物元素、および TM:残部であり、 前記複数の永久磁石は、前記磁界発生空間を挟んで対向する第1磁石および第2磁石を含み、 前記第1磁石および第2磁石は、前記磁界発生空間の中央部を通る直線であって前記中央部における磁界方向に平行な直線に沿って配列されており、 前記複数の永久磁石によって構成される磁石体の形状は、前記直線を含む第1の平面に関して略対称であるが、前記直線を含み前記第1の平面に垂直な第2の平面に関しては非対称であり、 前記複数の永久磁石は、更に 前記第1磁石を挟みこむ位置に配置された第3磁石および第4磁石と、 前記第2磁石を挟みこむ位置に配置された第5磁石および第6磁石と、 を含み、 前記第2の平面に垂直な方向に沿って計測した前記第3磁石のサイズは、前記第2の平面に垂直な方向に沿って計測した前記第4磁石のサイズより小さく、 前記第2の平面に垂直な方向に沿って計測した前記第5磁石のサイズは、前記第2の平面に垂直な方向に沿って計測した前記第6磁石のサイズより小さく、 前記第1磁石と前記第2磁石との間には、前記磁界発生空間を挟んで対向する2つの鉄製シムが設けられており、前記鉄製シムの各々は、対向面側に傾斜部を有しており、前記2つの鉄製シムの間隔が前記第2の平面に垂直な方向に沿って前記第4磁石および第6磁石に近づくほど広くなっている、磁界発生装置。

IPC (4)：

H01F 1/053 ( 200 6.01) ,  H01F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01F 7/02 ( 200 6.01) ,  H05H 7/04 ( 200 6.01)

FI (4)：

H01F 1/04 H ,  H01F 1/08 B ,  H01F 7/02 Z ,  H05H 7/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

• Nd-Fe-B型焼結磁石
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-042366   Applicant：日立金属株式会社
• 特開平3-177544
  
• 特開昭64-072502
  
• 永久磁石型偏向磁石装置および電子蓄積リング
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-087573   Applicant：川崎重工業株式会社
• 偏向磁石及びこの磁石を用いた装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-191692   Applicant：株式会社東芝
• セプタム電磁石
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-057766   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平4-334899
  
• リボルバー式挿入光源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-321282   Applicant：理化学研究所, 住友特殊金属株式会社, 株式会社住重テック
• イオン源および該イオン源を用いた中性粒子入射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-102366   Applicant：株式会社東芝
• 特開平2-114499
  
• 強度可変型多極ビームライン磁石
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-094853   Applicant：エスティーアイオプトロニクス,インコーポレイティド
• αアンジュレータ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-053738   Applicant：住友電気工業株式会社
• 希土類永久磁石の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-102491   Applicant：ティーディーケイ株式会社
• 特開平4-010503
  
• 特開平2-146705
  
• 磁石列の製造方法と該磁石列を用いた挿入光源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-057371   Applicant：信越化学工業株式会社