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J-GLOBAL ID:201103091100168552

微小気泡発生装置および発生法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009201113
Publication number (International publication number):2011050832
Application date: Aug. 31, 2009
Publication date: Mar. 17, 2011
Summary:
【課題】微小気泡を多量に発生させる。【解決手段】槽10に満たされた液体9の中に超音波放射面15が配置された振動体と、振動体上の気体放出口8より振動体の周囲に気体を供給することが可能な気体供給手段を有する構成において、気体供給口6に気体を供給しつつ液体9の中に配置した気体放出口8を周波数10kHz以上、気体放出口8での振幅10μm以上で振動させる。気体放出口8に供給された気体は、気体放出口8の周辺に形成させる気液界面11を形成し、振動伝達体5から生じる気体放出口8付近での強い超音波を受け、気液界面11から直接、あるいは一度放出した気泡12の更なる分裂を経て、多量の微小気泡13が生成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
少なくとも一部が液体中に配置された周波数10kHz以上、振幅10μm以上の振動が可能な振動体と、前記振動体の周囲液体に気体を供給する気体供給手段を有することを特徴とする微小気泡発生装置。
IPC (2):
B01F 3/04 ,  B01F 11/02
FI (3):
B01F3/04 Z ,  B01F3/04 A ,  B01F11/02
F-Term (4):
4G035AB07 ,  4G035AE02 ,  4G035AE19 ,  4G036AB23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
  • 特開昭57-171414
  • 均一径を持つ微小気泡発生法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-310353   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
  • 超音波装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-069051   Applicant:株式会社日立製作所
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