レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (18)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010063408
Publication number (International publication number)：2011197339
Application date： Mar. 19, 2010
Publication date： Oct. 06, 2011
Summary：

【課題】現像欠陥性能に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)により表される酸を発生する化合物とを含有したレジスト組成物。【化1】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)により表される酸を発生する化合物とを含有したレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 , G03F 7/32 , G03F 7/039

FI (3)：

G03F7/038 601 , G03F7/32 , G03F7/039 601

F-Term (45)：

2H096FA10 , 2H096GA03 , 2H125AF17P , 2H125AF19P , 2H125AF21P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AM12P , 2H125AM23P , 2H125AM30P , 2H125AM43P , 2H125AM45P , 2H125AM86P , 2H125AM94P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN37P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN63P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-190971 Applicant：富士フイルム株式会社
フォトレジスト用重合体及びその組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-119497 Applicant：住友化学株式会社
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-097432 Applicant：東京応化工業株式会社

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