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J-GLOBAL ID：200903068190441562

ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法

Inventor：
吉田 優子

About 吉田 優子


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007040997
Publication number (International publication number)：2008203639
Application date： Feb. 21, 2007
Publication date： Sep. 04, 2008
Summary：
【課題】ラインエッジラフネスに優れ、且つ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位(a)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、該樹脂を形成する化合物、それを用いたポジ型感光性組成物およびパターン形成方法。式中、R1はn+1価の炭化水素基を表す。R2、水素原子又は1価の有機基を表す。複数のR2は同一でも異なっていても良い。R3は、1価の有機基を表す。R2、R3は同一でも異なっていても良く、結合して環状構造を形成していてもよい。nは1以上の整数を表す【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位(a)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
F-Term (35)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100BC83P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (12)
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