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J-GLOBAL ID：201202134120825309
Reference number：12A1346456 フォトレフレクタンス分光法を用いたSi/SiO2界面の応力評価
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SOGAWA MASAYUKI
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(大阪大 大学院基礎工学研究科)
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OKUYAMA MASANORI
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(大阪大 大学院基礎工学研究科)
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Material：
応用物理学会学術講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
About 応用物理学会学術講演会講演予稿集
Volume： 61st Issue： 2 Page： 705 Publication year： Sep. 03, 2000
JST Material Number： Y0055A Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN) Language： JAPANESE (JA)
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レフレクタンス
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