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J-GLOBAL ID：201203021048718831

リソグラフィ装置及び物品の製造方法

Inventor：
塩出 吉宏

About 塩出 吉宏


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (6)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010232787
Publication number (International publication number)：2012089575
Application date： Oct. 15, 2010
Publication date： May. 10, 2012
Summary：
【課題】原版に形成された複数のマークの位置を並行して検出するのに有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の第1マークが形成された原版3を保持する保持体4と、第2マークが形成された基準板81を保持するステージ1と、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系5と、を備え、前記第2マークは、前記保持体4により保持された原版3における前記複数の第1マーク及び転写されるべき回路パターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を前記検出系5により並行して検出する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基板上に塗布された感光性材料に照射系から原版を介して光を照射して前記原版のパターンを前記基板のショット領域に転写するリソグラフィ装置であって、 複数の第1マークが形成された原版を保持する保持体と、 第2マークが形成された基準板を保持するステージと、 前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、 を備え、 前記第2マークは、前記保持体により保持された原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき回路パターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、 前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を前記検出系により並行して検出する、 ことを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (1)：
H01L 21/027
FI (1)：
H01L21/30 502D
F-Term (2)：
5F046AA28 ,  5F146AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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