パターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (17)：蔵田昌俊 , 高倉成男 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011182937
Publication number (International publication number)：2012068628
Application date： Aug. 24, 2011
Publication date： Apr. 05, 2012
Summary：

【課題】ブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できる有機溶剤系現像液を用いたパターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液を提供すること。【解決方法】(ア)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び(エ)有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(ア)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、 (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び (エ)有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程、を含むパターン形成方法。

IPC (5)：

G03F 7/32 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C08F 220/28

FI (6)：

G03F7/32 501 , G03F7/32 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 569E , C08F220/28

F-Term (103)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096EA05 , 2H096GA03 , 2H096GA18 , 2H125AE03P , 2H125AE04P , 2H125AE05P , 2H125AE06P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF26P , 2H125AF33P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH03 , 2H125AH06 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ16Y , 2H125AJ18X , 2H125AJ58X , 2H125AJ58Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ87Y , 2H125AJ88Y , 2H125AJ97Y , 2H125AM12P , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM32P , 2H125AM43P , 2H125AM66P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN31P , 2H125AN36P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125CC17 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL09S , 4J100AR11R , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA15Q , 4J100BA40P , 4J100BB18P , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04S , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100FA19 , 4J100JA38 , 5F146LA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-269342 Applicant：富士フイルム株式会社
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-325915 Applicant：富士フイルム株式会社
パタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-001907 Applicant：株式会社東芝

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