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J-GLOBAL ID：201203062683317817

医療用及び基礎化粧用(スキンケア用)高分子材料並びにその製造方法

Inventor：
青木 央

About 青木 央

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石原 雅之

About 石原 雅之

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中村 伸吾

About 中村 伸吾

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宮崎 俊一

About 宮崎 俊一


Applicant, Patent owner：
公益財団法人函館地域産業振興財団

About 公益財団法人函館地域産業振興財団


Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2009055760
Publication number (International publication number)：WO2010109588
Application date： Mar. 24, 2009
Publication date： Sep. 30, 2010
Summary：
【課題】本発明は、酸性高分子と塩基性高分子が同じ溶液に同時に溶解しない場合であっても、これらの溶解特性の異なる高分子の複合化を実現することにより、高分子複合体が種々多様な機能を兼ね備えることを特徴とする医療用及び基礎化粧用(スキンケア用)高分子材料を提供することを課題とする。【解決手段】酸性高分子及び塩基性高分子を含む混合粉末を支持シートに粉末塗布した後、金属イオン溶液に含浸させてイオン性架橋反応処理を表面に施し、穿孔処理とpHの変更によって粉末材料の複合化をおこない、イオン性架橋反応を平衡完了させて後、化学架橋反応処理を施すことを特徴とする医療用及び基礎化粧用(スキンケア用)高分子材料の製造方法。酸性高分子及び塩基性高分子を含む架橋複合体の表層部にイオン性架橋構造と化学架橋構造を備えることを特徴とする医療用及び基礎化粧用(スキンケア用)高分子材料。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
酸性高分子及び塩基性高分子を含む混合粉末を支持シートに粉末塗布した後、金属イオン溶液に含浸させてイオン性架橋反応処理することを特徴とする医療用及び基礎化粧用(スキンケア用)高分子材料の製造方法。
IPC (4)：
A61L 15/00 ,  A61K 8/02 ,  A61K 8/73 ,  A61Q 19/00
FI (4)：
A61L15/00 ,  A61K8/02 ,  A61K8/73 ,  A61Q19/00
F-Term (33)：
4C081AA06 ,  4C081AA12 ,  4C081BA11 ,  4C081BA12 ,  4C081BA14 ,  4C081BA15 ,  4C081BB06 ,  4C081BC02 ,  4C081CD041 ,  4C081CD051 ,  4C081CD091 ,  4C081CE01 ,  4C081DA02 ,  4C081DA12 ,  4C081DB03 ,  4C081DC04 ,  4C081EA02 ,  4C081EA06 ,  4C083AD301 ,  4C083AD312 ,  4C083AD321 ,  4C083BB33 ,  4C083BB34 ,  4C083BB44 ,  4C083BB48 ,  4C083CC03 ,  4C083DD12 ,  4C083DD41 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13 ,  4C083FF01 ,  4C083FF06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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