光電変換素子

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011274235
Publication number (International publication number)：2012142568
Application date： Dec. 15, 2011
Publication date： Jul. 26, 2012
Summary：

【課題】変換効率の高い光電変換素子を提供する。【解決手段】受光面の側に微細周期構造を有する光電変換素子の、他方の面が反射する光の進行方向に着眼した。そして、他方の面に光を反射する凹凸構造を設けて、受光面の側から他方の面の側に向かって進行してきた光を、光電変換層に沿って進行する成分が増えるように反射する構成とすればよい。反射光が光電変換層の内部を進行する距離が長くなることで、光電変換素子に入射した光が光電変換層に吸収され易くなり、また受光面の側から放出され難くなり、依って変換効率の高い光電変換素子を提供することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光電変換層と、前記光電変換層の受光面の側に微細周期構造と、前記光電変換層の他方の面の側にマイクロテクスチャ構造と、前記マイクロテクスチャ構造に接する反射電極と、を有し、前記微細周期構造は、アスペクト比が3以上15以下の微細構造物を、60nm以上500nm以下の周期で備え、前記マイクロテクスチャ構造は、アスペクト比が0.5以上3以下の構造物を、2μm以上100μm以下の周期で備え、前記反射電極は反射率が10%以上100%未満である光電変換素子。

IPC (1)：

H01L 31/04

FI (1)：

H01L31/04 H

F-Term (11)：

5F151AA02 , 5F151CA03 , 5F151CB12 , 5F151CB22 , 5F151DA03 , 5F151EA18 , 5F151FA04 , 5F151FA06 , 5F151FA23 , 5F151GA04 , 5F151GA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光閉込め構造及びそれを用いた受光素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-029092 Applicant：株式会社日立製作所
単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板とその製法及び表面微細凹凸構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-236083 Applicant：王子製紙株式会社
特開昭62-105485

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