Pat

J-GLOBAL ID：201203094710107195

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 榎本 雄一郎 ,  樽谷 晋司 ,  上村 聡 ,  岩戸 薫 ,  加藤 啓太 ,  渋谷 明規
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社
Agent (18)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011002060
Publication number (International publication number)：2012128383
Application date： Jan. 07, 2011
Publication date： Jul. 05, 2012
Summary：

【課題】 ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱(PEB)温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第1繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する第1化合物と、溶剤と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含み、塩基性を有するか又は酸の作用により塩基性が増大する第2化合物とを含有している。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第1繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する第1化合物と、 溶剤と、 フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含み、塩基性を有するか又は酸の作用により塩基性が増大する第2化合物と を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R

F-Term (80)：

2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF27P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH03 ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH07 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ23Y ,  2H125AJ35Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ92Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23N ,  2H125AM23P ,  2H125AM27N ,  2H125AM27P ,  2H125AM29P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43P ,  2H125AM45P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM95P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN31P ,  2H125AN36P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN50P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125AN78P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-079147   Applicant：富士フイルム株式会社
• パターン形成方法及びレジスト組成物並びにアセタール化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-058724   Applicant：信越化学工業株式会社
• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-086625   Applicant：信越化学工業株式会社
• パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-197838   Applicant：富士フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、保護膜、絶縁膜およびそれを用いた半導体装置、表示体装置。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-094632   Applicant：住友ベークライト株式会社