露光方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (5)：重信和男 , 内野春喜 , 清水英雄 , 高木祐一 , 中野佳直
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006250761
Publication number (International publication number)：2007114758
Patent number：4923254
Application date： Sep. 15, 2006
Publication date： May. 10, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】曲面を有する立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、レジストの高さ位置及び膜厚分布を2次元のマトリックスに分割し、フォトマスクを用いずにマトリックスごとに露光高さに合わせた焦点高さと、レジスト厚さに合わせた露光ドーズ量を用いて露光を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) , G03F 7/24 ( 200 6.01)

FI (2)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/24 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

3次元構造体の形成装置及び形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-109606 Applicant：株式会社東芝
三次元構造物形成方法および露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-116003 Applicant：シャープ株式会社
マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-300512 Applicant：株式会社ニコン

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