下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013020932
Publication number (International publication number)：2013216859
Application date： Feb. 05, 2013
Publication date： Oct. 24, 2013
Summary：

【課題】基板上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤の提供【解決手段】樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香環を有する構成単位と、芳香環を有しない構成単位とからなり、前記樹脂成分は前記基板と相互作用することができる基を有し、且つ3〜7員環のエーテル含有環式基を有しない下地剤。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香環を有する構成単位と、芳香環を有しない構成単位とからなり、前記樹脂成分は、前記基板と相互作用することができる基を有し、且つ、3〜7員環のエーテル含有環式基を有しないことを特徴とする下地剤。

IPC (3)：

C08L 25/02 , B05D 5/06 , C09D 201/02

FI (3)：

C08L25/02 , B05D5/06 104B , C09D201/02

F-Term (45)：

4D075AE03 , 4D075CB21 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB02 , 4D075DB06 , 4D075DB07 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DB48 , 4D075DB53 , 4D075EB14 , 4J002BC071 , 4J002BC131 , 4J002BG011 , 4J002BG031 , 4J002EV216 , 4J002EV236 , 4J002FD206 , 4J002GH00 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J038CC061 , 4J038CG141 , 4J038CH031 , 4J038CH121 , 4J038CH131 , 4J038CH191 , 4J038CH251 , 4J038CJ021 , 4J038CJ031 , 4J038GA06 , 4J038GA09 , 4J038GA10 , 4J038GA15 , 4J038JC01 , 4J038JC13 , 4J038JC18 , 4J038KA02 , 4J038MA09 , 4J038NA02 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 4J038PC02 , 4J038PC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

下地剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-205875 Applicant：東京応化工業株式会社, 独立行政法人理化学研究所
下層組成物および下層を像形成する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-213653 Applicant：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー., ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
パターン形成方法及びモールド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-211745 Applicant：日本電信電話株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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