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J-GLOBAL ID:201303066952922385
ガス分析用Jet-REMPI装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (4):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 亀松 宏
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2006143953
Publication number (International publication number):2007315847
Patent number:4906403
Application date: May. 24, 2006
Publication date: Dec. 06, 2007
Claim (excerpt):
【請求項1】 ガス導入系、イオン化室、レーザ照射系および飛行時間型質量分析計からなり、前記ガス導入系から前記イオン化室内に被測定ガスを前記飛行時間型質量分析計の方向に連続的に導入して超音速分子ジェット流を形成すると共に、前記レーザ照射系からレーザ光を該超音速分子ジェット流に対して照射して被測定ガス中の特定分子を共鳴多光子吸収過程でイオン化し、該生成イオンを前記イオン化室内のイオン光学系により加速偏向させた後、前記飛行時間型質量分析計で被測定ガス中の前記特定分子を分析するJet-REMPI装置において、
前記ガス導入系および前記イオン光学系を一体型の構造とし、単一真空排気系を備えて差動排気するとともに、前記イオン化室に、前記被測定ガスを前記飛行時間型質量分析計の方向に噴射するためのオリフィスノズルを内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の対向電極と、前記イオンを通過させるためのピンホールを有する仕切板を内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の引き出し電極と、アインツェルレンズと、さらに、隔壁で覆われた円筒状のポテンシャルスィッチおよびX,Yディフレクタとを順次配置し、かつ前記引き出し電極の先端から前記仕切板までの範囲の電極部材の一部または全てをメッシュ構造とするJet-REMPI装置であって、
前記出鼻型の引き出し電極内に配置したピンホールを有する仕切板のピンホール径および該引き出し電極の中心軸方向の仕切り板の位置は可変であることを特徴とするガス分析用Jet-REMPI装置。
IPC (2):
G01N 27/64 ( 200 6.01)
, H01J 49/06 ( 200 6.01)
FI (2):
G01N 27/64 B
, H01J 49/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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高感度超音速分子ジェット多光子吸収イオン化質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-276927
Applicant:新日本製鐵株式会社, 科学技術振興事業団, 株式会社日鐵テクノリサーチ
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指向性かつ冷却されたガス噴流を発生させるためのガス入口
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-608407
Applicant:ゲーエスエフ-フォルシュングスツェントルムフュアウムヴェルトウントゲズントハイトゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-053150
Applicant:日本電子株式会社
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Article cited by the Patent:
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