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J-GLOBAL ID：201303089317191153

多孔質体およびその製造方法

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Inventor： 中西 和樹 ,  伊藤 梨沙子 ,  石橋 恵
Applicant, Patent owner： ジーエルサイエンス株式会社
Agent (2)： 高橋 三雄 ,  高橋 大典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011136826
Publication number (International publication number)：2013003065
Application date： Jun. 20, 2011
Publication date： Jan. 07, 2013
Summary：

【課題】高速で高性能な分離のため、カラムの骨格を細くし連続貫通孔の細孔径を大きくして気孔率を増加さるとカラムの機械強度が低下し、連続貫通孔の形状や細孔径を高い精度で構造制御することは困難である。高い液体透過性を有しながら高速分離においても高性能を有し、連続貫通孔の形状や細孔の高い精度での構造制御を可能にする。【解決手段】無孔性連続骨格に形成された連続貫通孔表面に細孔を内部に含む多孔性被覆層を構成させたことを特徴とする多孔質体。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

無孔性連続骨格により形成された連続貫通孔の表面に、細孔を有する多孔性被覆層を形成させたことを特徴とする多孔質体。

IPC (3)：

G01N 30/88 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/10

FI (8)：

G01N30/88 201G ,  G01N30/88 101K ,  G01N30/88 101E ,  G01N30/88 101S ,  G01N30/88 101M ,  G01N30/88 201X ,  B01J20/28 A ,  B01J20/10 D

F-Term (18)：

4G066AA04C ,  4G066AA12C ,  4G066AA18C ,  4G066AA20C ,  4G066AA22B ,  4G066AA22C ,  4G066AA23C ,  4G066AA27C ,  4G066AA50C ,  4G066AC14C ,  4G066AC17C ,  4G066BA05 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA38 ,  4G066EA01 ,  4G066FA22 ,  4G066FA33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 多孔質体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-077057   Applicant：中西和樹, 曽我直弘, 株式会社京都モノテック
• 無機多孔質材料の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-010125   Applicant：曽我直弘, 中西和樹, 有限会社エム・アール・シー
• 無機系多孔質カラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-200392   Applicant：曽我直弘, 中西和樹
• 無機系および有機無機ハイブリッドコーティングの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-077047   Applicant：中西和樹
• クロマトグラフィー用多孔質体及びカラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-098489   Applicant：ジーエルサイエンス株式会社
• 二元細孔シリカ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-027064   Applicant：株式会社トクヤマ