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J-GLOBAL ID：201402207650430455   Reference number：14A0159065

Micro Pinhole Formation in Photoresist Multilayer Structure controlled with Hydrophilic Treatment

親水性処理により制御されたフォトレジスト多層構造中のミクロピンホール形成

Author (3)： NOGUCHI Yuta (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  TAKAHASHI Kenta (Nissan Chemical Ind., LTD., Tokyo, JPN) ,  KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 26  Issue： 6  Page： 739-744  Publication year： 2013 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,  *multistory structure ,  *pin hole ,  surface treatment ,  diffusion coefficient ,  interfacial tension ,  fine patterning ,  photolithography ,  *plasma treatment ,  plasma ,  analysis ,  contact angle ,  *oxygen plasma
Semi thesaurus term： *ネガ型フォトレジスト ,  pinning ,  defect analysis ,  surface free energy

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other reactions of polymer  (CG03040H)

Reference (10)：

• M. Yamada and A. Kawai, J. Photopolym. Sci. Technol., 24 (2011) 647.
• A. Altuna, L. M. de la Prida, E. Bellistri, G. Gabriel, A. Guimerá., J. Berganzo, R. Villa and L. J. Fernández, Biosens. Bioelectron., 37 (2012)
• B. P. Chaudhri, F. Ceyssens, P. D. Moor, C. V. Hoof and R. Puers, J. Micromech. Microeng., 20 (2010) 6.
• D. Hegemann, H. Brunner and C. Oehr, Nucl. Instrum. Methods. Phys. Res. B, 208 (2003) 281.
• F. Walther, T. Drobek, A. M. Gigler, M. Hennemeyer, M. Kaiser, H. Herberg, T. Shimitsu, GE. Morfill and R.W. Starkm, Surf. Interface Anal., 42 (2010) 1735.

Terms in the title (4)： 親水性 ,  フォトレジスト ,  多層構造 ,  ピンホール