3次元の空隙形状を有する構造体上にリン酸カルシウム化合物を被覆する処理方法と該構造体の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：丹羽宏之 , 野口忠夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2009051994
Publication number (International publication number)：2010202475
Patent number：5514455
Application date： Mar. 05, 2009
Publication date： Sep. 16, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】カラムクロマト充填材、触媒担持材、再生医療用細胞担体材(スキャフォールド)、細胞培養材、骨補填材、骨再建材、薬剤スクリーニング基材に用いられる3次元の空隙形状を有する構造体に分子プレカーサー法によりリン酸カルシウム化合物を形成できる溶液組成物を塗布した後、熱処理して該化合物を形成する際に、(A)酸化性雰囲気中300〜1100°Cで加熱する酸化処理、(B)酸化剤を0.1wt%〜50wt%添加した溶液組成物を塗布した構造体を、酸化性雰囲気中または大気中300〜1100°Cで加熱する酸化処理、(C)前記いずれかの加熱酸化処理後に酸化剤に浸漬もしくは浸漬後に100〜800°Cで熱処理する酸化処理、から選ばれる1つ以上の酸化処理工程により、構造体の強度の低下、変形、脆化を抑制し、該化合物を全面または部分的に被覆処理することを特徴とする構造体の製造方法。

IPC (6)：

C01B 25/32 ( 200 6.01) , G01N 30/88 ( 200 6.01) , A61F 2/28 ( 200 6.01) , A61L 27/00 ( 200 6.01) , B01J 20/04 ( 200 6.01) , B01J 20/32 ( 200 6.01)

FI (9)：

C01B 25/32 Q , G01N 30/88 201 X , A61F 2/28 , G01N 30/88 101 C , A61L 27/00 L , A61L 27/00 J , A61L 27/00 M , B01J 20/04 A , B01J 20/32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開昭62-116781
特公平3-060502
ヒドロキシアパタイトおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-369385 Applicant：佐藤光史, 池田芳則, 原広樹

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Cited by examiner (7)

特開昭62-116781
特公平3-060502
ヒドロキシアパタイトおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-369385 Applicant：佐藤光史, 池田芳則, 原広樹

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