プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 伊東秀明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014096065
Publication number (International publication number)：2015215942
Application date： May. 07, 2014
Publication date： Dec. 03, 2015
Summary：

【課題】簡単な構成でありながら広い領域に熱プラズマを直接照射することができるプラズマ発生装置およびプラズマ発生方法を提供する。【解決手段】中心軸Cの周りを囲む円環状のループ管の一部を切り欠くことにより一対の開口端が形成された形状を有するガス流通管2内にプラズマ発生ガス注入口4からプラズマ発生ガスを注入し、それぞれ中心軸Cの周りを囲むように巻回され且つガス流通管2を挟み込む一対の巻き線部31,32を有する空心コイル3に高周波電源6から高周波電力を供給して一対の巻き線部31,32の間に電界を形成すると共に中心軸Cに沿った磁界を形成することでガス流通管2内に誘導熱プラズマを発生させ、ガス流通管2の一対の開口端から真空チャンバ1内に誘導熱プラズマを射出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

真空チャンバと、中心軸の周りを囲む円環状のループ管の一部を切り欠くことにより一対の開口端が形成された形状を有すると共に前記一対の開口端を介して前記真空チャンバ内に連通するガス流通管と、前記ガス流通管の中間部に形成されたプラズマ発生ガス注入口と、それぞれ前記ループ管の前記中心軸の周りを囲むように巻回され且つ前記ガス流通管を挟み込む一対の巻き線部を有する空心コイルと、前記プラズマ発生ガス注入口から前記ガス流通管内にプラズマ発生ガスを流した状態で前記空心コイルに高周波電力を供給して前記一対の巻き線部の間に電界を形成すると共に前記ループ管の前記中心軸に沿った磁界を形成することで前記ガス流通管内に誘導熱プラズマを発生させる高周波電源とを備え、前記誘導熱プラズマが前記ガス流通管の前記一対の開口端から前記真空チャンバ内に射出されることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (3)：

H05H 1/30 , H05H 1/46 , H01L 21/31

FI (3)：

H05H1/30 , H05H1/46 L , H01L21/31 C

F-Term (3)：

5F045AA08 , 5F045EH04 , 5F045EH11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

外部から励磁されるトロイダルプラズマ源
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-519385 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
高周波プラズマ処理装置および処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-213750 Applicant：シャープ株式会社
プラズマの点火及び維持の方法と装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2013-534407 Applicant：ラムリサーチコーポレーション

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